Çin, teknoloji dünyasında önemli bir atılım gerçekleştirdi. Çin hükümeti, ABD yaptırımları karşısında teknoloji alanında kendi kendine yetebilme çabalarını hızlandırırken, yerli üretim iki çip üretim makinesini ön plana çıkarıyor. Çin Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığına (MIIT) görebu makineler önemli teknolojik ilerlemeler kaydetmiş durumda ancak henüz piyasada performans göstermiş değiller. Bu gelişme, ABD, Hollanda ve Japonya’nın Çin’e yönelik yeni yaptırım kararlarından sonra geldi. Çin, kendi DUV ekipmanını yaptı
Bu makineler, silikon plakalar üzerine karmaşık devre desenlerini basan litografi makineleri olarak tanımlanıyor. Bakanlık, bu makinelerin sahip olduğu teknolojik ilerlemelerin yanı sıra fikri mülkiyet haklarına da sahip olduklarını vurgularken, makineleri geliştiren firmaların isimlerini doğrudan açıklamadı.
Tanıtılan makinelerden biri, 193 nanometre (nm) dalga boyunda çalışan bir derin ultraviyole (DUV) litografi makinesi olup, 65nm’nin altında bir çözünürlük ve 8nm’nin altında üst üste bindirme doğruluğu sağlıyor. Diğer DUV makinesi ise 248nm dalga boyunda çalışıyor, 110nm çözünürlüğe ve 25nm üst üste bindirme doğruluğuna sahip.
Ancak bu makineler, piyasadaki en gelişmiş seçeneklerin gerisinde kalıyor. Örneğin, Hollandalı ASML Holding’in en ileri düzey DUV makinelerinden biri (TWINSCAN NXT:2100i), 38nm’nin altında çözünürlüğe ve 1.3nm’nin altında bindirme doğruluğuna sahip. Ayrıca ASML, aşır ultraviyole (EUV) olarak adlandırılan ve mevcut en gelişmiş çiplerin üretiminin yapıldığı litografi makinelerine de sahip. Bunlar, DUV ekipmanlarından daha küçük desenler basabiliyor.
Çin, kendi çiplerini üretebilecek
Çin, yarı iletkenler alanında teknoloji bağımsızlığına ulaşma yolunda uzun yıllardır mücadele ediyor. Ancak gelişmiş çiplerin seri üretimi için gerekli olan litografi sistemlerinin üretiminde ilerlemeler yavaş gerçekleşiyor. Ülkedeki litografi makinelerinin neredeyse tamamı, gelişmiş EUV makinelerine erişimleri kesilen ve ABD’nin baskıları altında olan ASML’den geliyor. Bu yerli ArF litografi (Argon florür) makinelerinin başta Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. (AMEC) ve Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) gibi önde gelen Çinli yarı iletken ekipman üreticileri ve araştırma enstitüleri tarafından geliştirildiği belirtiliyor, spesifik bir firma işaret edilmiyor. Ayrıca, Çin Bilimler Akademisi Mikroelektronik Enstitüsü de bu alanda önemli katkılarda bulunduğuna dikkat çekiliyor.
ABD ve Hollanda geçtiğimiz haftalarda Çin’e yönelik kısıtlamaları sıkılaştırmıştı. ASML’nin DUV ürün hattındaki orta seviye modelleri olan 1970i ve 1980i makineleri için bile lisans şartı getirilmişti. Dolayısıyla Çin’in kendi litografi yeteneğini geliştirmiş olması tarihi bir adım. Elbette bunların üretim ve kullanımını da görmek gerekiyor ancak Çin, görünüşe göre gelecekteki çip üretiminin çoğu için artık ASML’ye bağımlı olmayacak. Ek olarak şu an itibariyle Çin hükümeti veya üreticilerden bu gelişmeye dair resmi bir açıklama yapılmadı.
(Görseller temsilidir.)
Bir yanıt bırakın